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用途
•高分子材料表面的官能基付與一粘合性、密著性提高。通 過氧化反應，在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能 基（微量的水分及二氧化碳影響）。
同樣在氮氣等離子體中，氮原子被吸收在表面中，生
成-NH 2等官能基。
•硅晶圓蝕刻。
•材料表面改性（金屬、聚合物、薄膜、啕瓷等）。
•石棉預處理（膜過濾灰化）。
•從電子設(shè)備到生化市場。
•低溫灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。
•使用玻璃和PDMS板粘貼PDMS芯片。
•表面有機物去除。
■特點
• RF為200 W的高性能輸出類型（PR200）。
•由于是尺寸緊湊的臺式機，很小的位置都可以安裝。
•同步，自動調(diào)諧，操作簡單（PR200）。
•等離子體反應器（灰化設(shè)備）（PR200）。
•同步、自動調(diào)諧（PR200）。